我们要买荷兰生产的设备，美国却跳出来阻拦，这手伸的也太长了吧。众所周知啊，为了限制我们半导体行业的崛起，美国在整个产业链的各个环节都设置了关卡。能卡的必然得卡，尤其是芯片制造最关键的设备，e u v光刻机，美国更是直接对荷兰的供应商阿斯麦施压，不让它出口给我们。其实早在五年前，我们的技术团队就已经完成了从二十八纳米到七纳米芯片的五代支撑开发，甚至对于五纳米、三纳米的关键技术也都在有序的推进。只差一台e u v光刻机就能全面展开下一阶段的开发了。但是五年过去了，e u v光刻机还是没等到，就是因为美国不让荷兰卖给我们。那问题来了，咱们怎么突破封锁未来的机会，又在哪儿呢？点个关注加收藏，且听小高慢慢讲，先简单说一下光刻机到底是干嘛的，你可以把它理解成是一台超级精密的激光打印机。不过它不是打印文字的，而是在一块指甲盖大小的硅片上刻下几十亿个比病毒还小的晶体管。这些晶体管排列的越紧密，芯片的性能就越强。像你常听到的七纳米、五纳米、三纳米这些先进制程图案的精细程度，完全就是靠光刻机来投影完成的。所以把光刻形容为以光为刀的纳米雕刻艺术，一点都不夸张，没有光刻机就没有现代的芯片工艺。就像厨师没有锅，那手艺再好也做不出饭了。更关键的是，这种设备是一整套超复杂的系统集成，整机的重量超过一百吨，零部件超过十万个，需要全球八百多个供应商共同协作。你能想到的最顶级的材料学，光学热控、精密制造、软件控制，全在这一台机器里集齐了。比如他用到的反射镜平整度误差不能超过零点零五纳米，什么概念呢？就是相当于从北京到上海这么长的距离上，误差不能超过一根头发丝的十分之一。还有激光系统，一天要进行精准轰击五千万次，哪怕有一次失误，那整块晶圆就报废了。目前全球只有一家能制造e u v光刻机，就是荷兰的阿斯麦，他是真正的光刻之王。这你就明白了，为什么一台光刻机能卖到一点五亿美元，那咱们还有机会吗？你说实话确实难，但也不是没希望。现在其实就是咱们的国产光刻技术，从点到练突破的关键时刻。早在二零零六年，我们就启动了一个国家级的重大项目，叫做零二专项，目标非常明确，就是国家出钱给资源扶持企业。要把光刻机、刻蚀机、薄膜设备这些关键装备自己给造出来。那个时候我们整个芯片设备上的国产化率还不到百分之十。但到二零二四年底，这个数字已经接近百分之三十了。光刻相关的关键环节也开始出现了实质性的突破。就比如三个核心方向，第一光源系统，这是光刻机的心脏，决定了曝光的能量和精度。全球能做高端光源的企业屈指可数，而国内呢已经有企业在部分参数上接近国际水平了。第二就是光学系统最顶级的镜头系统，目前仍然被欧洲的企业垄断。但我们在中低端的镜头上已经实现突破，并且部分应用场景下已经可以国产替代了。而且这类镜头呢未来还可以拓展到激光雷达、卫星成像、航空航天这些高端领域上。第三，运动平台正是光刻机里精度最高的部分，要实现纳米级别的移动和精准定位。国内呢也已经有团队做到接近国际水准。如果能与整机联调成功，将成为国产替代的关键突破口。除了这三大核心部件，在光刻机的外围系统也取得了不少的进展。比如光刻胶、掩膜板、真空舱控制软件等等等等，正在逐步摆脱对进口的依赖。现在的国产光刻机已经不再是靠一两家公司在单点突破了，而是全产业链协同发力。虽然距离真正量产还需要时间，但是从整机到关键部位再到辅助系统，我们的国产化进程已经到了加速期。那作为投资者要怎么看这条主线呢？两个关键词，一是成链逻辑，别只盯盯着整机厂，更要关注它的上下。比如谁给他供货呀，谁在协同开发呀，谁未来有机会绑定核心订单，这类公司往往在一个行业突围的时候，能吃到第一波红利。第二个就是截断判断，目前高端的设备短期确实难以实现国产，但中低端设备正在快速的放量，特别是成熟的制程，用国产设备就完全足够了。光刻机绝对不是一个讲故事的概念，他拼的是技术积累和产业协同。在这场没有硝烟的技术攻坚战里，我们或许不会一夜翻盘，但是每一次的突破都是未来赢得胜利的筹码，下期见，拜拜。