国产d u v光刻机在中芯国际开始市场了，这是一个非常非常重大的突破。很多人只知道e u v光刻机，但是不知道d u v光刻机这两者有什么区别呢？核心就在于他们的光源不一样，d u v又叫深紫外光刻机，而e u v呢则叫极紫外光刻机。d u v在常规的功能下最高只能量产七纳米芯片，而e u v在常规的工艺下可以量产二纳米芯片。但是啊如果通过多层堆叠的工艺，d u v的极限也可以量产出五纳米的芯片。那么这种方法它的缺点就是成本比较高，良品率也比较低。目前中兴国际的d u v光刻机主要用于量产七纳米以下芯片，也就是说想要量产五纳米以下芯片，就必须要e u v光刻机了。那中国现在突破d u v的光刻机有什么意义呢？第一大意义就是我们摆脱了对海外d u v光刻机的依赖。很多人都不知道啊，在过去，中国不仅依赖于进口e u v光刻机，那么同样依赖于进口的d u v光刻机，差别就在于e u v被禁售了，而d u v没有被禁售。全球能造d u v光刻机的公司只有四家，分别是荷兰的阿斯麦、日本的佳能、日本尼康，以及我们中国上海的微电子。肯定有人会问啊，说怎么没人家美国公司呢？确实没有，因为美国他也造不出来美国的光刻机也是全靠荷兰、日本来供应。那中国上海微电子确实能造，但是我们一直以来呢造的性能不够先进。荷兰、日本能造二十八纳米的光刻机，量产工艺能够达到七纳米级。可上海微电子主要制造的是九十纳米的d u v光刻机，二十八纳米浸没式光刻机呢还在验证阶段尚未量产。但是在中美芯片战打响以后，中国就会迅速培育起了一批新兴的光刻机研发公司。这些公司的特点是非常非常年轻，成立时间也就两三年左右。但是他们立足高远，技术突飞猛进，比如听下来就已经在研发六十五纳米d u v光刻机了。而这一次进入中芯国际生产线的二十八纳米d u v光刻机，则是由上海宇量升公司研发的。这家公司也很年轻，成立于二零二二年，距今也不过才三年而已。但是这家公司的来头一点都不小，它背后有两大股东，一个是上海国资委，持股百分之五十，另一个呢就是深圳的星海来了，持股百分之五十。而深圳新凯来这家公司则是由深圳市国资委百分之百持股。也就是说这是真正的国家政策在发力，是上海国资委与深圳国资委联合打造出来的技术成果。为什么是他们俩主要有两大原因，一是呢这两家都不缺钱，第二是他们两家也不缺技术，深圳就不用讲了啊。坐拥华为，扶持新凯来一个重大的目的就是打破西方对华为公司的芯片封锁。那上海呢它就更强了。上海是中国芯片工业的超级高地，像华为、海思、紫光展锐、中兴国际、华虹半导体、上海微电子、复旦微电子等等一系列的半导体公司，全部都汇集于上海。上海拥有全中国最齐全的芯片产业集群，也有全中国最密集的芯片技术人才。在上海，只要国产的d u v光刻机一突破，就可以迅速投入中芯国际的生产线了。它对中国而言至少带来了三大突破。第一点就是摆脱了对荷兰、日本d u v光刻机的依赖。那么第二点就是反向掌握了中美芯片战的主动权。毕竟你美国是造不出d u v光刻机的，中国造出来了没有？荷兰日本的公开支持，美国根本就封扎不了中国的芯片产业。那么第三点就是我们减少了对胎积电的代工依赖。当前国产芯片工艺还做不到五纳米制程，但有了二十八纳米d u v光刻机以后，就能够突破五纳米的工艺了。它的背后呢隐藏着一个更强烈的信号，那就是国产e u v光刻机的突破也开始进入到倒计时了。因为d u v光刻机它跟e u v的光刻机最大的差别就在于极紫外光源。如果搞定d u v以后，再对其进行深度改造，迭代升级，那么e u v光刻机的国产化也就近在眼前了。一零预计啊今年二十八纳米d u v光刻机就能够搞定测试。那么到二零二六年就能够投入量产了。而e u v光刻机呢到二零二八年左右也将全面量产。等到那个时候，中国芯片技术的突飞猛进，可就真的再也挡不住了。